拋光工藝這些年有哪些新變化？

源自： 陶瓷信息  胡紹堅

拋光是瓷磚加工工序中十分重要的一項，無(wú)論是拋光磚、瓷片、仿古磚還是全拋釉和手工磚，都需要經(jīng)過(guò)打磨拋光才能進(jìn)行包裝銷(xiāo)售。而拋光工藝的優(yōu)劣也會(huì )直接影響瓷磚的質(zhì)量，就算瓷磚在壓制和燒成過(guò)程中都沒(méi)出問(wèn)題，到了拋光這一步如果出了差錯也會(huì )前功盡棄。

拋光工藝是通過(guò)拋光機實(shí)現的，拋光工藝的水平受到拋光機結構配置、拋光磨塊和工藝參數等因素的影響。多年來(lái)，許多企業(yè)都在努力提高拋光工藝水平，或是改良拋光機結構配置，或是提升拋光耗材的使用壽命，還有優(yōu)化工藝參數。企業(yè)的你追我趕使得陶瓷行業(yè)的瓷磚產(chǎn)品擁有更亮麗多樣的表面效果，也提升了拋光機的節能降耗水平。

細分市場(chǎng)

佛山市巴賽爾機電有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“巴賽爾機電”)總經(jīng)理黃惠廷介紹到，瓷磚拋光工藝分為粗拋、素拋、半拋、全拋和柔拋等，而瓷磚拋光機有刮平粗拋機、素坯拋光機和普通拋光機等分類(lèi)。粗拋是應用刮平粗拋機對瓷磚磚坯進(jìn)行刮平定厚的；素拋是針對瓷片拋光使用的，使用的是素坯拋光機；而半拋則是針對手工磚和仿古磚的拋光工藝；全拋是拋光磚和拋釉磚使用的工藝；柔拋是針對近年來(lái)比較熱門(mén)的柔光磚和噴墨滲花拋光磚使用的工藝。

此外，拋光磚和拋釉磚雖然都是使用全拋工藝，但是在拋光機的結構和電機功率、磨塊和磨頭的搭配以及磨塊的材質(zhì)上都有區分。拋釉磚拋光使用的是彈性磨塊，而拋光磚使用的是合金磨塊，目數和燒結強度都比彈性磨塊要高。

由于拋光機種類(lèi)多，企業(yè)的倉儲能力、軟件實(shí)力和財力都十分重要，所以許多生產(chǎn)拋光機的企業(yè)選擇生產(chǎn)其中的幾類(lèi)產(chǎn)品。而且，現在耗材的市場(chǎng)競爭大，全國有幾百家企業(yè)，以中小企業(yè)為主，然而市場(chǎng)卻在萎縮，企業(yè)的庫存壓力較大。許多生產(chǎn)耗材的企業(yè)都在想辦法降低成本，同時(shí)也在專(zhuān)注細分市場(chǎng)的耕耘，把產(chǎn)品做得更專(zhuān)業(yè)，不然就會(huì )被淘汰。

一位在瓷磚拋光線(xiàn)上工作多年的主管人員表示，如果不考慮瓷磚本身所具有的內因，單就拋光工藝而言，影響瓷磚拋光的幾個(gè)主要因素是拋光液、拋光磨頭、拋光磨塊和拋光工藝參數。

水是常用的拋光液，它既可起磨削冷卻的作用，又可作為拋光過(guò)程中物理作用的介質(zhì)；拋光磨頭是裝備拋光磨塊的設備，每平方米瓷磚分配的拋光磨頭的數量會(huì )影響瓷磚的拋光精度；拋光磨塊的制作材料多樣，對拋光磚進(jìn)行拋光時(shí)多采用含有金屬材料制成的拋光磨塊，硬度較軟的磨塊適用于柔光磚或弧面型瓷磚的拋光，硬度適中的磨塊對全拋釉等瓷磚拋光的效果比較好。

此外，拋光工藝參數有拋光劑的濃度和供給量及拋光時(shí)的壓力和線(xiàn)速度等。在小于某一濃度值之前，拋光速度隨拋光劑濃度的增加而增加，濃度值達最大之后，若再增加濃度，拋光速度反而降低。同樣，拋光劑的供給量在一定值時(shí)，拋光速度最大，之后若繼續增加供給量，拋光速度反而降低。適當增加拋光時(shí)的壓力，可以增加拋光速度，但壓力過(guò)大，磨削作用加強，不利于光澤面的形成。拋光速度取決于拋光磨頭的轉速，但線(xiàn)速度過(guò)大，拋光劑將會(huì )被甩出，造成浪費。

拋光機革新

黃惠廷透露，從上世紀九十年代初現代化瓷磚拋光機被引進(jìn)中國開(kāi)始，拋光機就成為了瓷磚生產(chǎn)線(xiàn)必不可少的部分。而在整個(gè)瓷磚拋光生產(chǎn)線(xiàn)中，拋光機是最重要的加工設備，瓷磚經(jīng)過(guò)拋光加工后表面具有平整光亮的特點(diǎn)。瓷磚拋光的質(zhì)量主要取決于拋光機工藝參數的制定，然而生產(chǎn)過(guò)程中普遍存在由于工藝參數設置不當造成漏拋、返拋的現象。同時(shí)陶瓷拋光機是高能耗設備，占據了30%-40%的拋光生產(chǎn)線(xiàn)電力成本，而傳統陶瓷拋光機工藝參數的制定大多建立在改善瓷磚表面加工質(zhì)量和提高拋光的生產(chǎn)效率等問(wèn)題上，缺乏能源消耗過(guò)程的考慮，導致能源損耗大、利用率低。節能降耗一直是陶瓷生產(chǎn)企業(yè)關(guān)注的焦點(diǎn)，工藝參數是控制生產(chǎn)質(zhì)量和能耗的關(guān)鍵，基于參數的優(yōu)化尋求滿(mǎn)足拋光質(zhì)量最好與能耗最小的節能方式不僅可為陶瓷企業(yè)節省成本提高收益，更為我國節能減排事業(yè)提供切實(shí)的技術(shù)基礎。

一直以來(lái)，人們印象中拋光機的基本結構都是瓷磚以正面向上的狀態(tài)運行，磨頭、拋光頭在其上方進(jìn)行磨削、拋光加工。時(shí)至今日，國內外的拋光機依然保持著(zhù)這種最基本的運行結構。然而，在2015年廣東一鼎科技有限公司推出了反置式拋光機，拋光磨頭跟傳統相比是反過(guò)來(lái)的，它的出現完全顛覆了人們對拋光機的傳統認知。據一鼎科技副總經(jīng)理廖衛平介紹，反置式拋光機大膽地將瓷磚與加工機械的位置進(jìn)行反置，即瓷磚以正面向下的狀態(tài)運行，而磨頭、拋光頭則在其下方進(jìn)行磨削、拋光加工，其新穎模式令人矚目。

有專(zhuān)家指出，反置式拋光機涉及的技術(shù)含量非常高，瓷磚反置之后，一方面要確保瓷磚反面運輸的時(shí)候不掉下來(lái)，一方面又要確保瓷磚需要拋磨的地方都拋磨到位，這是非常考驗技術(shù)設計的。

“傳統的拋光機，特別是瓷片拋光機最大的問(wèn)題是會(huì )吸水，吸水了以后反翹，在干燥過(guò)程中，甚至會(huì )造成釉面釉裂等一系列麻煩。”一鼎科技董事長(cháng)馮競浩表示，反置式拋光機正是為解決這些問(wèn)題而設計。

反置式拋光機則利用了地球引力的作用，使拋光過(guò)程中產(chǎn)生的磨削依據自重向下掉落，無(wú)需大量沖水來(lái)帶走磨削，只需要少量的水來(lái)進(jìn)行冷卻和潤滑，防止拋磨過(guò)程過(guò)熱把磚拋花。同時(shí)，瓷磚只有釉面接觸到水，而釉面磚的釉層不透水，因此，拋光后磚坯不會(huì )吸收水分，無(wú)需加熱干燥就可以直接包裝。

據一鼎科技提供的數據顯示，普通的拋光機每分鐘需要600升水，而反置式拋光機每分鐘只需要40升水，這就意味著(zhù)每分鐘節約560升水，假設一天按照工作8小時(shí)來(lái)計算，每天可以節約26.8噸水。所以，反置式拋光機又被稱(chēng)為“微水型拋光機”，僅節水這一項就可以為企業(yè)帶來(lái)不小的效益。而且由于拋光過(guò)程耗水量極低，其產(chǎn)生的“污水”可直接在陶瓷原料加工時(shí)消耗掉，無(wú)需進(jìn)行污水處理，企業(yè)還可以節省污水治理方面的投入。

柔拋工藝不斷完善

近年來(lái)，為了配合柔光磚的生產(chǎn)，出現了一種“柔拋工藝”，又稱(chēng)“靠形拋光”。以柔拋工藝對瓷磚表面肌理進(jìn)行控制，促使光線(xiàn)在瓷磚表面形成漫反射，降低磚面反光率，創(chuàng )造柔和的視覺(jué)光感，從而有效結合亮光瓷磚的明艷和亞光瓷磚的內斂效果，產(chǎn)品的質(zhì)感更細膩，光感更柔和。

另一方面，噴墨滲花拋光磚目前也應用了柔拋工藝，陶企為了盡量保留紋理的細節表現，提高磚面質(zhì)感與精細度，使用滲花工藝生產(chǎn)拋光磚對于磚坯的平整度要求極高，并且無(wú)法進(jìn)行深度拋光，多為柔拋，磚面的平整度較傳統拋光磚略差，工藝控制不到位甚至會(huì )出現較明顯的水波紋。

某陶企拋光生產(chǎn)線(xiàn)的主任分析到，柔拋工藝在行業(yè)中又習慣稱(chēng)軟拋工藝，主要是指拋光的切削量很少，著(zhù)重于提高表面的光澤度，一般不需要刮平、粗拋工序，直接進(jìn)行精拋，而且磨頭的磨料細度很高。例如，普通用于拋光磚加工的磨料細度一般為30-1500目，最高不超過(guò)1800目，切削厚度一般為0.8-1.5mm。而用于釉面拋光磚加工的磨料一般為600-5000目，甚至更高，切削厚度一般少于0.2mm。另外，在生產(chǎn)某些亞光磚時(shí)，采用硬質(zhì)毛刷代替傳統的磨頭，因此在行業(yè)中也有人稱(chēng)為柔拋工藝。

該主管透露，準確來(lái)講，其實(shí)柔拋工藝與靠形拋光是兩回事，但在釉面磚如全拋釉的生產(chǎn)過(guò)程這兩種工藝中往往同時(shí)使用。靠形拋光行業(yè)中又習慣稱(chēng)為彈性?huà)伖猓渥畲蟮奶攸c(diǎn)是能夠在一定程度上沿著(zhù)磚面的形狀進(jìn)行拋光，而不會(huì )很明顯地修正磚坯表面的平整度，該工藝主要應用于釉面磚生產(chǎn)。由于釉面磚的釉層比較薄，一般只允許切削表面0.2mm左右，如果采用傳統的“剛性?huà)伖狻保菀壮霈F明顯的缺花、缺釉現象，或出現嚴重的漏拋現象。

那么，彈性?huà)伖獾脑硎窃鯓訉?shí)現“靠形”的呢？其實(shí)關(guān)鍵在于磨頭結構的設計上。在拋光磨頭工作面一般設計成粒狀(塊狀)，工作面與底座之間設有一層1.0-1.5cm的彈性像膠，以使拋光時(shí)磨頭的工作面能夠根據磚面形狀自由調整方向，實(shí)現靠形拋光的目的。因此，彈性?huà)伖獠荒苄拚u面的平整度。